雷射微影

... 微影技術，達到量產目的，在壓印過程中所使用之奈米模具扮演著關鍵角色。一般用來製作奈米模具的方式有許多種，如光學微影、電子束微影等技術，而其中雷射干涉微影技術 ...

本研究提出利用雷射干涉微影(Laser Interference Lithography)進行NPSS之圖案定義，其中雷射干涉微影，亦有分數種實行方式，本研究針對多次曝光干涉微影與多光束干涉微影 ...

本論文利用雷射書寫系統利用灰階直寫之方式直寫於光阻上，製作三維微影圖形；先以Auto CAD繪製出所需圖案，經由DWL66之轉檔程式將之轉成機械碼後，不需使用光罩，利用DWL ...

由 楊音光 著作 · 2014 — 是故，本研究將找出造成曝光結果缺陷的真正原因，並設計一即時光形監測系統，來監控雷射干涉微影系統的光形，當光形因外界干擾而產生變化時，光形監測系統將發現並立即停止 ...

技術簡介. 熱寫微影系統搭配超解析熱寫微影製程可有效突破光學微影之繞射極限大幅縮小雷射曝光光點，並可以低成本製程加工出功能性奈米級圖案，已供不同領域之應用 ...

2023年1月25日 — 二、半導體微影製程設備的新興技術 目前最普遍的微影製程，是使用雷射光束搭配光罩進行投影製作圖案在晶圓上。但是隨著目標線寬愈來愈細，曝光機使用 ...

2023年11月30日 — 2 繞射式微鏡片之製作. 繞射式微透鏡之製作方式有RIE 半導體製程法、雷射微影光刻法(laser beam lithography)、雷射直寫微加工法、電子束微影光刻法 ...

準分子雷射（excimer laser）有氟化氪（KrF）和氟化氬（ArF）兩種，是驅動. 微影製程進入深次微米（deep submicron），使解析度小於0.5微米的曝光光源。一. 準分子雷射的 ...

這層光阻劑在曝光（一般是紫外線波長的準分子雷射）後可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光阻上，可以對光阻進行選擇性照射（曝光）。然後 ...